柳公权書院
捐助
基本笔画
偏旁部首
间架结构
经典碑帖
作品赏析
关于我们
← 返回目录
柳公权書院・基本点画解説
皿字底
【图例】
【视频示范】
法理概要
整体宜扁,不宜写高。四短竖间距均匀,两边短竖略向内收,中间两短竖稍细。底横应写长,以托上部。
筆法特徴
整体形态:
皿字底形体
宜扁
,书写时切忌过高,以保持重心下沉。
内部竖画:
四个短竖排列
间距均匀
。两外侧竖画略向
内收
,中间两个短竖用笔
稍细
,增加灵动感。
底横支撑:
最下方的长横需
向左伸
展并写长,起到稳稳
托住上部
构件的作用。
查看更多